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芯片界的重磅炸彈，1nm光刻機(jī)有突破了
芯片的制作工藝級(jí)別一直都是大家非常關(guān)注的問題，從2004年的64納米工藝一直升級(jí)到現(xiàn)在的5納米工藝，足足用了16年時(shí)間之久，如今有消息傳出荷蘭的ASML公司已經(jīng)完成1nm光刻機(jī)設(shè)計(jì)，說明1nm光刻機(jī)有突破了，并預(yù)計(jì)在2022年開始商用，這消息一出宛如一顆重磅震撼彈般撼動(dòng)著整個(gè)世界。
根據(jù)日媒11月30日消息，IMEC公司在ITF Japan 2020大會(huì)上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。根據(jù)IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove的透露，IMEC公司與ASML公司緊密合作，將推進(jìn)下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)。并且目前ASML公司已經(jīng)完成了作為NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設(shè)計(jì)，將應(yīng)用于1nm光刻機(jī)，預(yù)計(jì)2022年即可商用。
在半導(dǎo)體領(lǐng)域有一個(gè)經(jīng)典理論，即“大約每兩年，晶體管密度就會(huì)增加1倍”，業(yè)內(nèi)人通常把這個(gè)定律稱之為摩爾定律。1納米工藝，曾是想都不敢想的，如今已有計(jì)劃實(shí)現(xiàn)，這怎能不引起全球的廣泛關(guān)注。
荷蘭ASML公司突破1nm光刻機(jī)固然是令人振奮的，不過這也讓大家關(guān)心國內(nèi)的光刻機(jī)技術(shù)了，現(xiàn)在已經(jīng)商用的5納米的光刻機(jī)，而國內(nèi)目前只能達(dá)到14納米工藝，5納米工藝預(yù)計(jì)我們國內(nèi)預(yù)計(jì)還需要四、五年才能實(shí)現(xiàn)，也就是說，現(xiàn)今國產(chǎn)光刻機(jī)的工藝和世界先進(jìn)水平的有兩代差距。
如今，荷蘭ASML公司1nm光刻機(jī)已經(jīng)完成1nm光刻機(jī)設(shè)計(jì)，留給國產(chǎn)光刻機(jī)的時(shí)間真的不多了，希望國內(nèi)的科學(xué)家再加把勁，來個(gè)彎道超車，讓全世界都刮目相看。
